Термовакуумно-напыленные пленки 1Н-индол-3К-(фенил)-альдонитрона - сухопроявляемый материал для лазерной микролитографии

Анатацыя

Экспериментально показано, что при вакуумном испарении 1Н-индол-3N-(фенил)-альдонитрона образуются высококачественные глянцевые пленки аморфного типа. При лазерном экспонировании (λ = 351 нм) полученных пленок образуется скрытое изображение маски, которое проявляется вакуумным излучением кварце-во-галогенных ламп КГМ-1. Пленки толщиной 1,3±0,2 мкм маскируют ионы фосфора и бора с энергией до 1 000 эВ (при дозах 0,10-0,12 мКл/см²) в кремниевой технологии получения БИС.